打印本文 打印本文 关闭窗口 关闭窗口
工频电磁场暴露对胚胎鼠眼晶状体的发育缺乏影响
作者:姚克 俞一…  文章来源:浙江大学医学院附属第二医院眼科中心 310009  点击数909  更新时间:2007/5/30 17:32:04  文章录入:fuyuezeng  责任编辑:毛进
目的:研究工频电磁场暴露是否对胚胎鼠眼晶状体的发育产生影响。方法:采用频率50 Hz、磁通密度0 mT 、1.5 mT、4.5 mT的电磁场,在BALB/c小鼠孕0~18天辐照3小时/天,孕19天取胚胎鼠眼晶状体,每组保留1只孕鼠至幼鼠出生后2周,显微镜下观察各组晶状体及出生后2周幼鼠晶状体的透明度,电镜观察胚胎鼠眼晶状体上皮细胞的超微结构,各组胚胎鼠眼晶状体行水溶性蛋白、水不溶性蛋白测定,real-time PCR检测各组胚胎鼠眼晶状体Pax6、Sox1、Prox1、c-maf mRNA表达水平,ANOVA分析。结果:同0 mT电磁场暴露后的胚胎鼠眼晶状体相比,1.5 mT、4.5 mT组胚胎鼠眼晶状体透明,各组出生后2周幼鼠晶状体均透明。同0 mT组相比,1.5 mT、4.5 mT组胚胎鼠眼晶状体上皮细胞超微结构无明显改变,水不溶性蛋白/总蛋白比值各组差异无显著性(p>0.05),各组Pax6、Sox1、Prox1、c-maf mRNA表达水平差异无显著性(p>0.05)。结论:1.5 mT、4.5 mT工频电磁场暴露未能对胎鼠眼晶状体的发育产生影响。
打印本文 打印本文 关闭窗口 关闭窗口