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| 准分子激光原位角膜磨镶术与角膜上皮下磨镶术对高度、超高度近视波前像差影响的对比研究 |
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作者：马红利 文章来源：河南洛阳解放军150中心医院眼科 点击数：929 更新时间：2008/1/10 
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准分子激光原位角膜磨镶术与角膜上皮下磨镶术对高度、超高度近视波前像差影响的对比研究
马红利 李世洋
（解放军第150中心医院眼科准分子激光治疗中心，河南洛阳 471031）
摘要 目的 观察并比较准分子准分子激光原位角膜磨镶术（LASIK）与角膜上皮下磨镶术(LASEK)对高度、超高度近视波前像差的影响。方法：使用Zeiss－WASCA客观像差仪采集术前、术后6月暗室自然瞳孔5mm直径下的波前像差，并将所得数据进行统计学处理。结果：①术前两组波前像差分布均以低阶像差为主，在高阶像差成分中，以慧差和球差为主。②术后两组总体像差均方根值（RMSg）明显减少，LASIK组降低79%，LASEK组降低72%，两组相比差异无显著性意义（P＞0.05）；③术后高阶像差均方根值（RMSh）增大，LASIK组增大1.07倍，LASEK组增大1.06倍，两组相比增高幅度无显著差异（P＞0.05）。④术后LASIK组慧差2.68±1.40、球差3.107±1.450；LASEK组慧差2.73±1.47，球差2.972±1.452，两组慧差、球差改变相比差异无显著意义（P＞0.05）。结论：对于高度、超高度近视的治疗，术后LASEK组和LASIK组RMSg 均降低，RMSh增大，以慧差和球差为主，两种手术方式对高阶像差的影响无差异。
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| 会议投稿录入：毛进 责任编辑：毛进 |
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