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丝裂霉素C在准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术中的应用         
丝裂霉素C在准分子激光上皮瓣下角膜磨镶术中的应用
作者:贾友志 文章来源:沈阳市松辽激光医院 点击数:1041 更新时间:2008/1/11
沈阳市松辽激光医院准分子激光治疗中心 110021 贾友志 李颖 武涛
目的:探讨丝裂霉素C在准分子激光上皮下角膜磨镶术后减少HAZE反应中的预防作用。
方法:将在术中应用MMC的患者随机抽取53个人患者,103只眼。开睑后,采用8.0mm角膜上皮环钻做刻痕,注入浓度为20%酒精,时间15~20s。用BBS冲洗,刮起上皮至蒂部,折叠、保留在上方。进行激光切削。切削后,将浸有0.02%MMC的棉片置于切削区,时间根据屈光度大小而定。BBS冲洗复位上皮瓣,戴角膜接触镜5~6天。术后用0.1%氟美瞳4次/日,以后每3周递减1次,抗菌素、人工泪液常规使用。分别于治疗后1、6、12个月检查并记录裸眼视力、 角膜上皮下雾状混浊(HAZE)程度进行比较。
结果:治疗后1、6、12个月视力大于0.8的分别是95.2%、98.2%和99.6%,治疗后1个月角膜上皮下雾状混浊(HAZE)0、1、2级以下的分别是88.7%、11.3%、0;;6个月分别是98.2%、1.8%、0;12个月分别是99.03%、0.97%、0。术中、术后均无严重并发症发生。
结论:鉴于HAZE的发生多与近视度数有关,近视度数高的患者更易发生,因此应用丝裂霉素C的时间依据近视度数高低决定,0.02%丝裂霉素C能有效抑制HAZE的形成,并有助于术后视力的提高。
会议投稿录入:毛进    责任编辑:毛进 
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